全文获取类型
收费全文 | 1086篇 |
免费 | 566篇 |
国内免费 | 87篇 |
专业分类
化学 | 318篇 |
晶体学 | 17篇 |
力学 | 69篇 |
综合类 | 22篇 |
数学 | 170篇 |
物理学 | 1143篇 |
出版年
2024年 | 1篇 |
2023年 | 12篇 |
2022年 | 40篇 |
2021年 | 42篇 |
2020年 | 44篇 |
2019年 | 31篇 |
2018年 | 52篇 |
2017年 | 68篇 |
2016年 | 65篇 |
2015年 | 66篇 |
2014年 | 132篇 |
2013年 | 152篇 |
2012年 | 115篇 |
2011年 | 127篇 |
2010年 | 96篇 |
2009年 | 75篇 |
2008年 | 71篇 |
2007年 | 71篇 |
2006年 | 55篇 |
2005年 | 68篇 |
2004年 | 51篇 |
2003年 | 51篇 |
2002年 | 47篇 |
2001年 | 34篇 |
2000年 | 30篇 |
1999年 | 25篇 |
1998年 | 16篇 |
1997年 | 23篇 |
1996年 | 17篇 |
1995年 | 15篇 |
1994年 | 10篇 |
1993年 | 6篇 |
1992年 | 5篇 |
1991年 | 5篇 |
1990年 | 3篇 |
1989年 | 2篇 |
1988年 | 3篇 |
1987年 | 4篇 |
1986年 | 3篇 |
1984年 | 1篇 |
1982年 | 1篇 |
1981年 | 3篇 |
1977年 | 1篇 |
排序方式: 共有1739条查询结果,搜索用时 15 毫秒
101.
Research on high-voltage 4H-SiC P-i-N diode with planar edge junction termination techniques 下载免费PDF全文
The planar edge termination techniques of junction termination extension (JTE) and offset field plates and field-limiting rings for the 4H-SiC P-i-N diode were investigated and optimized by using a two-dimensional device simulator ISE-TCAD10.0. By experimental verification, a good consistency between simulation and experiment can be observed. The results show that the reverse breakdown voltage for the 4H-SiC P-i-N diode with optimized JTE edge termination can accomplish near ideal breakdown voltage and much lower leakage current. The breakdown voltage can be near 1650 V, which achieves more than 90 percent of ideal parallel plane junction breakdown voltage and the leakage current density can be near 3 × 10-5 A/cm2. 相似文献
102.
Open-circuit voltage analysis of p-i-n type amorphous silicon solar cells deposited at low temperature 下载免费PDF全文
This paper identifies the contributions of p-a-SiC:H layers and i-a-Si:H layers to the open circuit voltage of p-i-n type a-Si:H solar cells deposited at a low temperature of 125 C.We find that poor quality p-a-SiC:H films under regular conditions lead to a restriction of open circuit voltage although the band gap of the i-layer varies widely.A significant improvement in open circuit voltage has been obtained by using high quality p-a-SiC:H films optimized at the "low-power regime" under low silane flow rates and high hydrogen dilution conditions. 相似文献
103.
On the basis of the mean value of electrical breakdown time delay and the standard deviation of electrical breakdown time delay σ dependence on the afterglow period τ, the mechanisms which dominantly influence to breakdown initiation in nitrogen were separated. It was shown that the positive ions formed in mutual collision of long‐lived metastable molecules have a dominant role in breakdown initiation for τ values up to 70 ms. The metastable molecules were derived from previous breakdown and discharge. In this case σ ≪ td and the total time delay td is approximately equal to formative time tf which decreases in value with the increase of overvoltage. When positive ions have a dominant role in the breakdown initiation the Gaussian distribution describes data of td ≈ tf very well. For τ > 1 s, N (4S) atoms formed in previous breakdown and discharge, have a dominant role in the breakdown initiation. Then, σ ≈ and Laue's distribution, which is valid for statistical time delay ts, describes td data very well (© 2011 WILEY‐VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim) 相似文献
104.
105.
106.
应用水热法制备了注射器样纳米结构氧化锌样品,室温下测量其真空场发射特性.根据测量数据,基于Fowler-Nordheim方程,估算了场发射效应增强因子,观察到增强因子随外加电压增加取值的两阶段性;结合样品的光致发光谱和能量散射谱,应用半导体材料中强场效应理论,结合场发射电流密度测量系统的串联电路等效,研究样品中空位对场发射特性影响机理.结果表明,制备过程中形成的锌、氧空位,在样品中产生了相当于杂质态的缺陷能级,缺陷能级与样品形貌共同作用,使样品较大的增强因子随场强增加而阶跃性下降.最后,用电化学沉淀法和气
关键词:
场发射
强场效应
缺陷态
串联等效 相似文献
107.
采用分子束外延技术生长了两个叠层结构的双色量子阱红外探测器结构,并经过光刻和湿法刻蚀制作成两端结构的量子阱红外探测器单元器件. 通过改变量子阱势垒高度,势阱宽度,掺杂浓度,重复周期数等器件参数,可以使总电压在两个叠层之间产生适当的分布,从而使器件表现出不同的电压响应特点. 光电流谱测量显示,器件1随着外加偏置电压可实现对于中波大气红外窗口(3—5 μm)和长波大气红外窗口(8—12 μm)红外响应的切换,器件2在不同的偏置电压下可以对这两个波段同时做出响应. 本文探讨了两端叠层结构量子阱红外探测器的工作原
关键词:
电压调制
同时响应
量子阱红外探测器
双波段 相似文献
108.
109.
结合应变硅金属氧化物半导体场效应管(MOSFET)结构,通过求解二维泊松方程,得到了应变Si沟道的电势分布,并据此建立了短沟道应变硅NMOSFET的阈值电压模型.依据计算结果,详细分析了弛豫Si1-βGeβ中锗组分β、沟道长度、漏电压、衬底掺杂浓度以及沟道掺杂浓度对阈值电压的影响,从而得到漏致势垒降低效应对小尺寸应变硅器件阈值电压的影响,对应变硅器件以及电路的设计具有重要的参考价值.
关键词:
应变硅金属氧化物半导体场效应管
漏致势垒降低
二维泊松方程
阈值电压模型 相似文献
110.